Высокопроизводительная рентгеновская литография
Руководитель
Характер работы
Экспериментальный.
Описание
Литография является ключевой технологией производства элементов микро(нано)электроники, определяющей топологические нормы и степень интеграции сверхбольших интегральных схем (СБИС). В ИФМ РАН предложен инновационный метод высокопроизводительной рентгеновской литографии. В настоящее время в рамках проекта Фонда Перспективных Исследований по этой теме выполняется аванпроект. В случае подтверждения физических принципов, заложенных в основу метода фондом планируется поддержка большого проекта по созданию впервые в мире литографа-демонстратора технологии высокопроизводительной рентгеновской литографии.
Контакты
ИФМ РАН к. 128, chkhalo@ipmras.ru
